| Название: | Литография высокого разрешения в технологии полупроводников |
| Просмотров: | 158 |
| Раздел: | Технология |
| Ссылка: | Скачать(235 KB) |
| Описание: | Для объектива с числовой апертурой NA=0.35 при экспонировании на длине волны 300 нм глубина фокуса DF составляет менее 1.5 мкм. В этом случае неплоскостность пластин, неровный топографический рельеф, а также са |
|
