БЕЛОРУССКИЙ ГОСУДАРСТВЕННЫЙ УНИВЕРСИТЕТ ИНФОРМАТИКИ И РАДИОЭЛЕКТРОНИКИ
кафедра ЭТТ
РЕФЕРАТ на тему:
«Фоторезисты (ФР), виды, требования к ним, методы нанесения»
МИНСК, 2008
Основными параметрами фоторезистов являются светочувствительность, разрешающая способность, кислотостойкость, адгезия к подложке и технологичность.
СветочувствительностьS, см2 /(Вт • с),- это величина, обратная экспозиции, т. е. количеству световой энергии, необходимой для облучения фоторезиста, чтобы перевести его в нерастворимое (негативный) или растворимое (позитивный) состояние :
(7.3.1)
где Н - экспозиция Вт • с/см ; Е — энергооблученноеть, Вт/см2; t — длительность облучения, с,
Точную характеристику светочувствительности можно получить, учитывая не только процесс экспонирования, но и проявления. Так как проявитель химически взаимодействует с экспонированными и неэкспонированными участками слоя фоторезиста, процесс проявления оказывает прямое влияние на его светочувствительность. В прямой зависимости от процесса проявления, а следовательно, и светочувствительности фоторезиста находится качество формируемого в его слое при проявлении рисунка элементов.
Таким образом, критерием светочувствительности фоторезиста служит четкость рельефа рисунка в его слое после проведения процессов экспонирования и проявления. При этом рельеф рисунка должен иметь резко очерченную границу между областями удаленного и оставшегося на поверхности подложки слоя фоторезиста.
Критерием светочувствительности негативных фоторезистов является образование после экспонирования и проявления на поверхности подложки локальных полимеризованных участков — рельефа рисунка, т. е. полнота прохождения фотохимической реакции полимеризации (сшивки) молекул основы фоторезиста.
Критерием светочувствительности позитивных фоторезистов является полнота разрушения и удаления (реакция фотолиза) с поверхности подложки локальных участков слоя фоторезиста после экспонирования и проявления и образование рельефного рисунка.
Фоторезисты характеризуются также пороговой светочувствительностью Sn = 1/H1, определяемой началом фотохимической реакции.
Светочувствительность и пороговая светочувствительность фоторезиста зависят от толщины его слоя, а также состава и концентрации проявителя. Поэтому, говоря о значении светочувствительности и пороговой светочувствительности, учитывают конкретные условия проведения процесса фотолитографии. Определяют светочувствительность экспериментально, исследуя скорость проявления фоторезиста, которая зависит от степени его облучения.
Разрешающая способность - это один из самых важных параметров фоторезистов, характеризующий их способность к созданию рельефа рисунка с минимальными размерами элементов. Разрешающая способность фоторезиста определяется числом линий равной ширины, разделенных промежутками такой же ширины и умещающихся в одном миллиметре.
Для определения разрешающей способности фоторезистов используют штриховые миры, представляющие собой стеклянные пластины с нанесенными на их поверхность штрихами шириной от одного до нескольких десятков микрометров. Разрешающую способность определяют проводя экспонирование подложки, покрытой слоем фоторезиста, через штриховую миру, которую используют в качестве фотошаблона. После проявления выделяется участок с различными штрихами наименьшей ширины, которые и характеризуют разрешающую способность данного фоторезиста.
Следует различать разрешенную способность фоторезиста и разрешающую способность процесса фотолитографии, которая зависит от режимов травления. ............
